Desenvolvimento de um sistema de deposição por laser pulsado para o crescimento de filmes finos radioativos
DOI:
https://doi.org/10.15392/2319-0612.2024.2331Palavras-chave:
ablação a laser, deposição por laser pulsado, filme fino, laser de nanossegundos, alvo radioativoResumo
Os filmes finos radioativos desempenham um papel crucial no avanço das baterias beta-voltaicas. A principal vantagem dessas baterias nucleares reside em sua durabilidade, podendo se estender por até cem anos, dependendo da meia-vida do radioisótopo utilizado. Nesse contexto, a Deposição por Laser Pulsado (PLD) é uma ferramenta importante. Um aspecto significativo de um sistema que emprega essa técnica é que os equipamentos principais ficam fora da câmara onde o material radioativo é processado. Consequentemente, essa característica viabiliza a criação de um arranjo em que a área contaminada é estritamente controlada, permitindo o crescimento de filmes finos radioativos. Assim, este trabalho propôs o desenvolvimento de um sistema PLD dedicado ao crescimento de filmes finos radioativos. O sistema PLD foi implementado com sucesso e alvos de cobre radioativos foram processados por 60 minutos e 120 minutos, resultando em filmes finos radioativos com espessura média de (167,8 ± 3,7) nm e (313,5 ± 9,2) nm, respectivamente. Em seguida, conduziu-se um estudo minucioso sobre a propagação da contaminação radioativa no sistema PLD, visando comprovar a eficácia do filtro implementado em reter a contaminação dentro da câmara de vácuo. Este estudo apresenta, pela primeira vez, a viabilidade do uso da técnica PLD no crescimento de filmes finos radioativos, abrindo caminho para futuras pesquisas no desenvolvimento de baterias nucleares beta-voltaicas.
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